本文采用離子源輔助電子束蒸發(fā)的方法,制備了以Si為基底,以TiO2為緩沖層的ZnO薄膜。通過(guò)進(jìn)一步保溫處理,并分別在不同溫度條件下進(jìn)行退火處理得到了不同的樣品薄膜用于表面形貌分析和光散射特性實(shí)驗(yàn)研究,結(jié)果表明:退火溫度對(duì)樣品表面粗糙度、晶粒大小、分形維數(shù)等參數(shù)具有顯著的影響,通過(guò)表面形貌分析有助于對(duì)薄膜晶粒生長(zhǎng)機(jī)制的理解和薄膜制備工藝的改進(jìn);不同薄膜樣品的反射光強(qiáng)度和偏振度對(duì)不同偏振光具有不同的角度響應(yīng)特征,且與薄膜表面統(tǒng)計(jì)特性具有一定的關(guān)聯(lián)性,通過(guò)薄膜的光散射特性研究對(duì)計(jì)算薄膜樣品的等效折射率和研究弱散射隨機(jī)粗糙表面的退偏作用具有重要參考價(jià)值。
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作者
崔驥;劉曄;李永強(qiáng);蔣立勇;王清華;李相銀;賀安之
期刊
中國(guó)激光
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