在室溫條件下采用磁控濺射技術(shù)在滌綸機(jī)織物表面沉積金屬薄膜,利用掃描電鏡(SEM)和原子力顯微鏡(AFM)觀察納米金屬薄膜的表面形貌,通過(guò)分別改變磁控濺射工藝參數(shù)濺射時(shí)間、濺射功率和氣體壓強(qiáng),研究其對(duì)試樣抗靜電性能的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,濺射時(shí)間和濺射功率對(duì)鍍金屬薄膜試樣的抗靜電性能均影響較大,而氣體壓強(qiáng)影響相對(duì)較小。濺射時(shí)間40min、濺射功率120W、氣體壓強(qiáng)1.6Pa工藝條件下,鍍Cu膜試樣的抗靜電性能最好;濺射時(shí)間40min、濺射功率120W、氣體壓強(qiáng)1Pa或1.6Pa工藝條件下,鍍Ag膜試樣的抗靜電性能最好,而且鍍Ag比鍍Cu薄膜試樣的抗靜電性能更優(yōu)異。
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作者
袁小紅;魏取福;陳東生;徐文正.
期刊
材料科學(xué)與工程學(xué)報(bào),32:6,848-852(2014)
年份